戻る イニシャル LiSiブロックにステイニングとマイクロレイヤリングを用いたワークフロー GC CIRCLE No.195 2025年12月05日 資料 no195_3.pdf 関連商品 イニシャル LiSi（リジ）ブロック イニシャル IQ ラスターペースト ONE イニシャル スペクトラムステイン イニシャル IQ SQIN 著者 林 昱佑 台湾 YU YO Dental Studio 歯科技工士
